水基，標準濃度、單晶金剛石（HFMW）

金相和巖相研磨、拋光。

各種黑色和有色金屬研磨拋光。

陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學玻璃等產品高光潔度表面的研磨及拋光。

40μm 、28μm 、20μm 14μm 、9μm、 7μm、5μm、 3.5μm、2.5μm、1.5μm 、1.0μm、0.5μm、0.25μm

500ml

水基，標準濃度、單晶金剛石（HFMW）

金相和巖相研磨、拋光。

各種黑色和有色金屬研磨拋光。

陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學玻璃等產品高光潔度表面的研磨及拋光。

0.05μm

500ml

水基，高濃度、單晶金剛石（HFSW）

保持高磨削力的同時不易產生劃傷，降低制樣時間，用于硬質合金、晶體、陶瓷等各種硬質材料的快速研磨與拋光。

14μm 、9μm、 7μm、5μm、 3μm、1.0μm、0.5μm、0.25μm

500ml

油基，無水，高濃度、單晶金剛石（HFSO）

用于黑色金屬、有色金屬、水敏感材料，軟質材料樣品的研磨與拋光。

14μm 、9μm、 7μm、5μm、 3μm、1.0μm、0.5μm、0.25μm

500ml

水基，標準濃度、多晶金剛石（BEMW）

金相和巖相研磨、拋光。

各種黑色和有色金屬研磨拋光。

陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學玻璃等產品高光潔度表面的研磨及拋光。

14μm 、9μm、 7μm、5μm、 3μm1.0μm、0.5μm、0.25μm

500ml

水基，高濃度、多晶金剛石（BESW）

具有高磨削力、降低制樣時間，

金相和巖相研磨、拋光。

各種黑色和有色金屬研磨拋光。

用于各種超硬合金、光學晶體、陶瓷等各種硬質材料的快速研磨與拋光。

14μm 、9μm、 7μm、5μm、 3μm1.0μm、0.5μm、0.25μm

500ml